臺(tái)積電南京12寸廠招兵買馬，明年引進(jìn)16nm

據(jù)Digitimes報(bào)道，臺(tái)積電南京廠正在就人員和產(chǎn)業(yè)鏈的配套做緊張的落地工作，他們一方面鼓勵(lì)晶圓代工相關(guān)的企業(yè)能夠在南京就近提供服務(wù)和資源支持，另外一方面從上海8寸廠組織了近300人的團(tuán)隊(duì)進(jìn)行培訓(xùn)工作，待竣工后轉(zhuǎn)入南京廠。

按計(jì)劃，臺(tái)積電南京廠將在2018年提供16nm的代工支持。今年下半年進(jìn)行設(shè)備安裝，明年上半年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)。

資料顯示，南京廠的月產(chǎn)能為2萬(wàn)片。

值得一提的是，2018年應(yīng)該還是臺(tái)積電本部7nm推出的時(shí)間節(jié)點(diǎn)，滿足所謂“大陸工藝需落后兩代”的臺(tái)資設(shè)廠要求。

臺(tái)積電南京廠今年下半年開始裝機(jī)

在通過(guò)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)部投審會(huì)等審核后，2016年3 月，臺(tái)積電正式與南京市政府簽約，落腳南京江北新區(qū)浦口園區(qū)，臺(tái)積電以7.63 億新臺(tái)幣，取得該園區(qū)橋林片段13.6 萬(wàn)坪土地50 年使用權(quán)，在初期整地完成后，于去年7月7 日舉行動(dòng)土奠基儀式，宣告建廠工程正式展開，為臺(tái)積電在中國(guó)首座12 吋晶圓廠。

廠房預(yù)計(jì)2018年完工，并于2018年下半從16納米切入量產(chǎn)，據(jù)臺(tái)積電先前規(guī)劃，初期月產(chǎn)能約2萬(wàn)片。據(jù)7月5日臺(tái)積電承包商所作公告，該廠區(qū)包含12吋晶圓廠與服務(wù)中心一期項(xiàng)目生產(chǎn)廠房、動(dòng)力廠房、天然氣減壓站及制程所需設(shè)施。

據(jù)報(bào)導(dǎo)，臺(tái)積電南京有限公司總經(jīng)理羅鎮(zhèn)球日前在 ICMC 2017 上表示，臺(tái)積電 7 納米制程預(yù)計(jì) 2017 年下半將為客戶 tape－out 生產(chǎn)。此外，他還透露，現(xiàn)階段 EUV 最新曝光機(jī)臺(tái)在臺(tái)積電已經(jīng)可以達(dá)到連續(xù) 3 天，穩(wěn)定處理超過(guò) 1,500 片 12 寸晶圓的狀態(tài)。根據(jù)時(shí)程，臺(tái)積電南京廠預(yù)計(jì) 2017 下半年就要安裝生產(chǎn)機(jī)臺(tái)，2018 上半年試產(chǎn)，2018 下半年正式投入量產(chǎn)。

報(bào)導(dǎo)中指出，羅鎮(zhèn)球指出，臺(tái)積電作為全球最大晶圓代工廠，將會(huì)持續(xù)推進(jìn)摩爾定律。目前臺(tái)積電 10 納米制程已順利量產(chǎn)，2017 年下半年 7 納米制程也將正式 tape－out。而臺(tái)積電所采用 ASML 最新 EUV 的型號(hào)為 NXE3350 的曝光機(jī)臺(tái)，光源已經(jīng)可以提高到 125 瓦，同時(shí)已達(dá)到連續(xù) 3 天處理 1,500 片 12 寸晶圓的水準(zhǔn)。

羅鎮(zhèn)球還指出，未來(lái)智能芯片將會(huì)滲透到個(gè)人、工業(yè)、零售、智慧城市領(lǐng)域，摩爾定律也將持續(xù)推動(dòng)芯片走向低功耗、高性能、小面積。而事實(shí)上，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)未來(lái)的挑戰(zhàn)不僅只有制程微縮而已，其他的挑戰(zhàn)還包括 EUV、整個(gè)電晶體的架構(gòu)從 2D 轉(zhuǎn)變成 3D，以及整個(gè)環(huán)繞式 ALL Around Gate、Narrow－wide Device 等等。

羅鎮(zhèn)球舉例，臺(tái)積電目前在 3D 芯片領(lǐng)域開展了多條創(chuàng)新技術(shù)，包括 IC 系統(tǒng)整合 CoWos，將不同晶圓切割好再堆疊，單位體積上達(dá)到更高密度電晶體；目前此技術(shù)已在 GPU 芯片實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。這些都是臺(tái)積電在運(yùn)用普及計(jì)算中的技術(shù)創(chuàng)新。

目前位于南京浦口的工廠是臺(tái)積電在中國(guó)大陸地區(qū)的第一座 12 寸晶圓廠。羅鎮(zhèn)球透露，臺(tái)積電南京廠預(yù)計(jì) 2017 下半年就要安裝生產(chǎn)機(jī)臺(tái)，并且于 2018 上半年試產(chǎn)， 2018 下半年正式投入量產(chǎn)。

中芯國(guó)際14nm仍需時(shí)日

2016年10月13日中芯國(guó)際（SMIC）宣布在上海開工建設(shè)新的12英寸晶圓廠，投資超過(guò)675億人民幣，明年底正式建成，這座工廠將使用14nm工藝，這是中芯國(guó)際最先進(jìn)、同時(shí)也是國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的制造工藝。

這次在上海建設(shè)的12英寸晶圓廠就是針對(duì)未來(lái)需求建設(shè)的，預(yù)計(jì)2017年底建成，2018年正式量產(chǎn)，初期月產(chǎn)能就高達(dá)7萬(wàn)片晶圓。官方公告中并沒(méi)有提到該工廠的制程工藝，它實(shí)際上是中芯國(guó)際首個(gè)14nm產(chǎn)線。

目前一代的FinFET工藝中，TSMC是16nm節(jié)點(diǎn)，三星、Intel各自開發(fā)了14nm FinFET工藝，GlobalFoundries則使用了三星的14nm工藝授權(quán)。由于受到出口限制，中國(guó)只能選擇自己開發(fā)，2015年，中比利時(shí)國(guó)王訪華時(shí)，華為、高通、中芯國(guó)際及比利時(shí)微電子中心宣布合作開發(fā)14nm工藝。當(dāng)時(shí)中芯國(guó)際宣布與華為、比利時(shí)微電子研究中心、高通共同投資設(shè)立中芯國(guó)際集成電路新技術(shù)研發(fā)（上海）有限公司，開發(fā)下一代CMOS邏輯工藝。

新公司由中芯控股、華為、Imec、高通各持一定股份。初期公司以14納米邏輯工藝研發(fā)為主。中芯CEO兼執(zhí)行董事邱慈云任法人代表，中芯副總裁俞少峰任總經(jīng)理。

從體量上看，上述四家公司在各自的領(lǐng)域都是世界領(lǐng)先的半導(dǎo)體公司，而在寡頭競(jìng)爭(zhēng)”、“寡頭壟斷”、“寡頭聯(lián)盟”的國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)新時(shí)代，四方的合作更具有跨時(shí)代的意義。中國(guó)國(guó)家主席習(xí)近平和比利時(shí)國(guó)王菲利普共同見證了簽約儀式。

中芯國(guó)際在上海建設(shè)的12英寸晶圓廠就是為此準(zhǔn)備的，至于2018年是否能量產(chǎn)，半導(dǎo)體行業(yè)觀察認(rèn)為，那就看推進(jìn)進(jìn)度了。

當(dāng)然，上海的12英寸晶圓廠不止會(huì)上14nm工藝，未來(lái)還會(huì)升級(jí)10nm以及7nm工藝。